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理工農醫
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OLED有機發光二極體顯示器技術
作者
:
陳志強 (著)
出版社
:
全華圖書股份有限公司
出版日期
:
2007
閱讀格式
:
PDF
書籍分類
:
學術書
;
理工農醫
學科分類
:
應用科學類
ISBN
:
9572156985
有機發光二極體
顯示器
薄膜電晶體
AMOLED
發光效率
液晶顯示器
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目錄
第一章 緒論-顯示未來
1.1 前言
1.2 平面顯示世代
1.3液晶顯示器的發展與沿革
1.4無機發光二極體之發展
1.5小分子有機發光二極體之發展
1.5.1 小尺寸SMOLED的之開發
1.5.2 中大尺寸SMOLED的開發
1.6高分子有機發光二極體之發展
1.7 主動式有機發光二極體的優勢
1.7.1 輕薄省電
1.7.2 反應速度
1.7.3 數位影像
第 2 章 有機發光二極體應用與規格
2.1 前言
2.2 有機發光二極體應用
2.2.1 手持式裝置顯示器
2.2.2 車用顯示器
2.2.3 筆記型電腦顯示器
2.2.4 多媒體應用顯示器與監視器
2.2.5 航空電子顯示器
2.2.6 雷達顯示器
2.2.7 醫療用顯示器
2.2.8 平面電視
2.3 面板解析度
2.3.1 長寬比
2.3.2 CIF與QCIF
2.3.3 VGA 與QVGA
2.3.4 XGA 與SXGA
2.3.5 QUXGA 與QUXGA-Wide
2.3.6 HDTV
2.4 綠色概念設計
2.4.1 無鉛面板
2.4.2 無汞面板
2.4.3 無鉻面板
2.4.4 省電設計
第 3 章 有機發光二極體顯示原理
3.1 前言
3.2 發光二極體顯示原理
.3 有機發光二極體顯示原理
3.3.1 三元色發光原理
3.3.2 白光發光原理
3.4 元件結構
3.4.1 陽極層
3.4.2 電洞注入層
3.4.3 電洞傳輸層
3.4.4 發光層
3.4.5 雙發光層
3.4.6 電子傳輸層
3.4.7 陰極層
3.5 發光效率
3.5.1 螢光發光
3.5.2 磷光發光
3.6 亮度加強
3.6.1 對比度
3.6.2 光加強結構
3.6.3 微透鏡陣列
3.6.4 透鏡製造方法
3.7 色彩飽和度
3.8 反應時間
3.8.1 灰階對灰階時間
3.8.2 影像殘留
第 4 章 有機發光二極體全彩技術
4.1 前言
4.2 彩色化製造流程
4.3. 熱蒸鍍法
4.3.1 真空熱蒸鍍架構
4.3.2 點狀源與線狀源
4.3.3 金屬遮罩定位
4.3.4 金屬遮罩設計
4.3.5 金屬遮罩精度
4.3.6 遮罩清潔
4.4 有機氣相沈積
4.5 旋轉塗佈法
4.6 噴墨印刷法
4.6.1 噴墨頭設計
4.6.2 噴墨準確度
4.6.3 表面處理
4.7 外在媒體變換法
4.7.1 色轉換法
4.7.2 RGB 彩色濾光片法
4.7.3 RGBW 彩色濾光片法
4.7.4 COA 架構
4.7.5 黑色矩陣設計
4.8 轉印法
4.8.1 雷射感熱成像
4.8.2 奈米壓印技術
第 5 章 被動式矩陣背板技術
5.1 前言
5.2 被動式矩陣架構
5.2.1 被動式面板限制
5.2.2 有機發光二極體之整流比
5.3 被動式SMOLED 製造流程
5.3.1 負型光阻製程
5.3.2 剝脫製程
5.3.3 整合型分離體製程
5.4 被動式LEP 製造流程
5.5 被動式驅動系統
5.5.1 灰階顯示
5.5.2 預充電電路
5.5.3 串音
5.5.4 閃爍
5.5.5 功率消耗
5.6 驅動IC 封裝
5.6-1 自動捲帶封裝
5.6.2 軟膜覆晶封裝
5.6.3 玻璃覆晶封裝
第 6 章 主動式矩陣背板技術
6.1 前言
6.2 單晶矽電晶體
6.3 低溫複晶矽薄膜電晶體
6.3.1 線束型準分子雷射結晶
6.3.2 循序性側向雷射結晶
6.3.3 固態雷射結晶
6.3.4 金屬誘發結晶型
6.3.5 複合結晶型
6.4 非晶矽薄膜電晶體
6.4.1 光罩縮減製程
6.4.2 半色調型光罩
6.4.3 灰色調型光罩
6.4.4 狹縫型光罩
6.4.5 載子移動率
6.4.6 微晶矽薄膜
6.4.7 臨界電壓
6.5 有機薄膜電晶體
6.5.1 有機主動層
6.5.2 電極結構
6.5.3 接觸電阻
6.5.4 導通電阻
6.5.5 閘極絕緣層
6.5.6 複合型閘極絕緣層
6.5.7 絕緣層表面型態
6.6 畫素發光架構
6.6.1 下部發光型畫素
6.6.2 上部發光型畫素
6.6.3 雙面發光型畫素
6.7 低阻值導線
6.7.1 鋁金屬
6.7.2 銅與銀金屬
第 7 章 有機發光二極體陽極製程
7.1 前言
7.2 陽極電極特性
7.3 氧化銦錫
7.3.1 成膜技術
7.3.2 冷氧化銦錫
7.3.3 薄膜導電性
7.3.4 表面粗糙度
7.4 氧化銦鋅
7.4.1 成膜技術
7.4.2 表面粗糙度
7.5 氧化鋅
7.5.1 成膜技術
7.5.2 薄膜導電性
7.6 堆疊型陽極
7.7 反射型陽極
7.8 微共振腔結構
7.8.1 金屬鏡-金屬鏡型微共振腔
7.8.2 金屬鏡-布拉格反射鏡型微共振腔
7.9 陽極表面處理
7.9.1 溼式與乾式處理
7.9.2 底層表面形態
7.9.3 基板平整性
第 8 章 有機發光二極體陰極製程
8.1 前言
8.2 陰極電極特性
8.3 單層型陰極
8.4 合金型陰極
8.5 多層型陰極
8.6 半穿透金屬型陰極
8.7 對比加強架構
8.7.1 圓形偏光架構
8.7.2 光學增亮膜
8.7.3 內部光學干涉
8.7.4 抗反射層
8.7.5 整合式黑色矩陣結構
第 9 章 主動式類比畫素設計
9.1 前言
9.2 畫素設計設定
9.2.1 畫素間距
9.2.2 畫素開口率
9.2.3 RGB 畫素排列架構
9.2.4 RGBW 畫素排列架構
9.3 差異性衰減
9.3.1 子畫素配置
9.3.2 畫素驅動補償
9.3.3 加瑪校正
9.4 畫素驅動分類
9.4.1 1T 簡易型畫素
9.5 電壓定義型畫素
9.5.1 2T-1C 畫素驅動
9.5.2 修正型2T-1C 畫素驅動
9.5.3 3T-1C 畫素驅動
9.5.4 4T-2C 畫素驅動
9.6 電流定義型畫素
9.6.1 4T-1C 電流鏡畫素驅動
9.6.2 4T-1C 電流複製畫素驅動
9.7 畫素補償架構
第 10 章 主動式數位畫素設計
10.1 前言
10.2 數位驅動設計
10.3 面積比例灰階型
10.3.1 畫框權重
10.3.1 面積比例設計
10.4 訊號時間比例灰階型
10.4.1 顯示區間分離法
10.4.2 顯示區間分離法畫素
10.4.3 同步消除掃描法
10.4.4 同步消除掃描法畫素
10.5 時間面積混合比例灰階型
第 11 章 有機發光二極體封裝技術
11.1 前言
11.2 畫素暗點
11.2.1 壽命
11.2.2 老化機制
11.3 封裝規格需求
11.4 外蓋封裝
11.4.1 外蓋封裝製程
11.4.2 外蓋材質
11.4.3 外蓋封口膠
11.4.4 乾燥劑
11.5 單層薄膜封裝
11.5.1 氧化矽膜封裝
11.5.2 氮化矽膜封裝
11.5.2 SiONx 單層膜封裝
11.5.3 類鑽碳單層膜封裝
11.5.4 其他單層膜封裝
11.6 多層薄膜封裝
11.6.1 氮化矽/氮化碳多層膜封裝
11.6.2 氮化矽/氧化矽多層膜封裝
11.6.3 混合多層膜封裝
11.6.4 可撓曲封裝
第 12 章 有機發光二極體技術藍圖
12.1 平面顯示技術藍圖
12.2 有機發光二極體顯示器的未來
12.4 結語
附錄 A RPI 複晶矽薄膜電晶體模型參數
附錄 B RPI 非晶矽薄膜電晶體模型參數
詳細資訊
國際計量
出版地
:
臺灣
語言
:
繁體中文
OLED有機發光二極體顯示器技術
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